ヒラノテクシード

株式会社ヒラノテクシード(英:HIRANO TECSEED Co.,Ltd.)は、奈良県北葛城郡河合町に本社を置く繊維加工機器の開発製造などを行っている企業。

会社概要


商号:株式会社ヒラノテクシード
創業年:1935年(昭和10年)6月
本社所在地:奈良県北葛城郡河合町川合101番地の1

会社沿革


  • 1935年(昭和10年)6月 創立。熱交換機(ヒーター)、送排風機(ファン)の専門メーカとして、現在の大阪市平野区に合資会社を創立(資本金5,000円)
  • 1939年(昭和14年)3月 応用機器の販売。「熱と風」の理論と研究から応用技術を生かした熱風乾燥機、輸送機器、科学機器等の設計、製造、販売を行う
  • 1947年(昭和22年)4月 染色仕上関係機械に重点を置いた各種乾燥機を開発する
  • 1957年(昭和32年)3月 資本金300万円となり株式会社組織とする
  • 1961年(昭和36年)10月 資本金3,600万円となる
  • 1962年(昭和37年)4月 資本金1億円となり大阪証券取引市場第二部上場
  • 1964年(昭和39年)4月 輸出貢献企業に成長 輸出貢献企業として通産省より表彰される
  • 1970年(昭和45年)6月 創立35周年、社旗完成
  • 1971年(昭和46年)12月 資本金5億6千万円となる
  • 1973年(昭和48年)6月 「ヒラノテクニカム」を設置
  • 1979年(昭和54年)3月 本社工場増築
  • 1981年(昭和56年)7月 省エネを探究し新機種(シンプレックステンター)完成。下記表彰等受ける。優秀省エネルギー機器表彰受賞(財団法人日本機械工業連合会)省エネルギー税制優遇措置適用機種(通産省告示第201号)
  • 1985年(昭和60年)6月 創立50周年を迎え社史発刊
  • 1988年(昭和63年)4月 資本金10億5千3百万円となる
  • 1989年(平成元年)1月 株式会社ヒラノテクシードに社名変更
  • 1990年(平成2年)2月 スイスフラン建転換社債を発行
  • 1990年(平成2年)3月 新鋭「ヒラノテクニカム(商品開発センター)」竣工
  • 1991年(平成3年)3月 資本金18億4千7百万円となる
  • 1998年(平成10年)4月 ISO9001 認証取得
  • 1998年(平成10年)11月 ドイツ・スティアーグ社より液晶レジスト塗布用CAPコータの技術を導入
  • 1999年(平成11年)2月 「CAP Coater」の大型試作機をヒラノテクニカム内に設置
  • 2000年(平成12年)1月 「CAP Coater」をフォト用レジスト塗布装置として製品化
  • 2000年(平成12年)6月 連続シートへの塗布を可能とした「連続式 Capillary Coater」を開発
  • 2001年(平成13年)3月 研究開発用小型「Capillary Coater」を開発
  • 2001年(平成13年)11月 中厚セラミックシート成形テスト機「M-600SF」を「ヒラノテクニカム」に設置
  • 2001年(平成13年)12月 第5世代LCD用「新型 Capillary Coater」を開発
  • 2002年(平成14年)3月 有機EL発光層成膜プロセスを開発
  • 2002年(平成14年)12月 耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発
  • 2008年(平成20年)5月 レーザー加工機を更新
  • 2010年(平成22年)1月 リチウムイオン電池用テストコーター「R800-DB」、蓄熱式脱臭装置をテクニカムに設置
  • 2010年(平成22年)10月 平面研削盤を増設
  • 2012年(平成24年)8月 本社工場の敷地を拡大
  • 2013年(平成25年)1月 新塗装工場竣工
  • 2013年(平成25年)7月 大阪証券取引所市場第二部が東京証券取引所第二部に統合
  • 2014年(平成26年)3月 ヒラノ光音株式会社(現連結子会社)の本社及び工場を当社敷地内に新築移転

事業内容


  • 有機ELテクノロジー、ガラスクロス処理、合成皮革製造装置等、コーティング、乾燥等の繊維加工機器の開発、製造

外部リンク



  • 最終更新:2017-04-20 21:39:47

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