KOKUSAI ELECTRIC

会社概要

会社沿革

• 1949年（昭和24年）　電気通信機器および高周波応用機器の製造販売を主目的とする国際電気株式会社を設立
• 1956年（昭和31年）　ゲルマニウム、シリコン単結晶引上装置を受注し、半導体製造装置事業を開始
• 1961年（昭和36年）　世界で初めての高周波応用によるシリコン単結晶の性能測定用ライフタイム測定器と比抵抗測定器を開発。国際電気株式会社が東京証券取引所に上場（同年10月、市場第一部銘柄に指定）
• 1963年（昭和38年）　半導体製造装置における不純物拡散の研究を開始
• 1964年（昭和39年）　半導体素子製造における不純物拡散の研究により拡散炉を開発
• 1970年（昭和45年）　CVD装置を開発
• 1971年（昭和46年）　アメリカのデラウェア州に現地法人Kokusai Electric Co., of America（現 Kokusai Semiconductor Equipment Corporation）を設立
• 1977年（昭和52年）　ドイツのデュッセルドルフに現地法人Kokusai Electric Europe GmbH（現 Kokusai Semiconductor Europe GmbH）を設立
• 1983年（昭和58年）　150mmウェーハ対応のシリコン・エピタキシャル成長装置（DC-7000）を開発
• 1985年（昭和60年）　縦型CVD拡散装置「VERTEX」の発売を開始
• 1987年（昭和62年）　150mmウェーハ対応の縦型CVD装置（VERTEX-Ⅱ）を開発
• 1989年（平成元年）　国際電気システムサービス株式会社（現 株式会社国際電気セミコンダクターサービス）を設立。富山工場（現 富山事業所）操業開始
• 1990年（平成2年）　200mmウェーハ対応の縦型CVD装置（VERTEX-Ⅲ）を開発。自然酸化膜を抑止するロードロック装置（VERTEX-Ⅴ(C)）を開発
• 1991年（平成3年）　富山工場（現 富山事業所）・トレーニングセンタ開設
• 1993年（平成5年）　大韓民国天安市に現地法人 Kook Je Electric Korea Co., Ltd.を設立（連結子会社）
• 1996年（平成8年）　台湾に亜太國際電機股分有限公司を設立。300mmウェーハ対応の縦型拡散・CVD装置（ZESTONE-Ⅲ）を開発。300mmウェーハ対応の枚葉CVD装置（ZESTONE-Ⅶ）を開発
• 2000年（平成12年）　国際電気株式会社・日立電子株式会社・八木アンテナ株式会社が合併し、株式会社日立国際電気に商号変更
• 2001年（平成13年）　国際電気システムサービス株式会社が通信・情報部門を日立電子システムサービス株式会社に営業譲渡し、株式会社国際電気セミコンダクターサービスに商号変更
• 2002年（平成14年）　亜太國際電機股分有限公司が、Kokusai Electric Asia Pacific Shanghai Ltd.（現 科意半導体設備（上海）有限公司）を設立。次世代プロセス対応枚葉プラズマ窒化装置（MARORA）を開発
• 2003年（平成15年）　Q-TAT （Quick-Turn Around Time）対応のQUIXACEを開発
• 2005年（平成17年）　NEW QUIXACE L/L （QLV2）を開発
• 2008年（平成20年）　高生産性アッシング・アニールTANDUOを開発
• 2010年（平成22年）　Kook Je Electric Korea Co., Ltd.平澤工場を建設
• 2011年（平成23年）　QUIXACE ULTIMATEを開発。Kook Je Electric Korea Co., Ltd.天安工場を拡張
• 2015年（平成27年）　高生産性縦型装置AdvancedAce-300を開発
• 2017年（平成29年）　HKEホールディングス合同会社を東京都千代田区丸の内に設立。富山工場（現 富山事業所）剱館完成。HKEホールディングス合同会社からHKEホールディングス株式会社に組織変更
• 2018年（平成30年）　株式会社日立国際電気が東京証券取引所市場第一部上場廃止。HKEホールディングス株式会社が株式会社日立国際電気を完全子会社化。会社分割により、株式会社日立国際電気の成膜プロセスソリューション事業をHKEホールディングス株式会社が承継し、株式会社KOKUSAI ELECTRICに商号変更。完全子会社となった株式会社日立国際電気の普通株式を20％ずつ、株式会社日立製作所およびHVJホールディングス株式会社へ売却し、非連結子会社化。本店を東京都千代田区丸の内から東京都千代田区神田へ移転
• 2019年（令和元年）　AdvancedAceⅡを開発
• 2020年（令和2年）　高品質成膜・高性能半導体製造装置TSURUGI-C2 剱を開発。株式会社日立国際電気の全株式をHVJホールディングス株式会社に売却し、株式会社日立国際電気を非子会社化
• 2021年（令和3年）　富山事業所がISO45001 認証取得。その他資本剰余金99億円を資本金に振替、資本金100億円となる無償増資を実施
• 2022年（令和4年）　コーポレートスローガン「技術と対話で未来をつくる」を制定。新企業理念「KOKUSAI ELECTRIC Way」を制定

事業内容

• 半導体製造装置の開発・製造・販売・搬入・セットアップと、その装置のメンテナンス・修理・部品販売などのサービス

外部リンク